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| 臺大學術典藏 |
2019-12-27T07:49:51Z |
GaAs MOSFET with oxide gate dielectric grown by atomic layer deposition
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Ye, P.D.;Wilk, G.D.;Kwo, J.;Yang, B.;Gossmann, H.-J.L.;Frei, M.;Chu, S.N.G.;Mannaerts, J.P.;Sergent, M.;Hong, M.;Ng, K.K.;Bude, J.; Ye, P.D.; Wilk, G.D.; Kwo, J.; Yang, B.; Gossmann, H.-J.L.; Frei, M.; Chu, S.N.G.; Mannaerts, J.P.; Sergent, M.; Hong, M.; Ng, K.K.; Bude, J.; MINGHWEI HONG |
| 臺大學術典藏 |
2019-12-27T07:49:51Z |
GaAs MOSFET with oxide gate dielectric grown by atomic layer deposition
|
Ye, P.D.;Wilk, G.D.;Kwo, J.;Yang, B.;Gossmann, H.-J.L.;Frei, M.;Chu, S.N.G.;Mannaerts, J.P.;Sergent, M.;Hong, M.;Ng, K.K.;Bude, J.; Ye, P.D.; Wilk, G.D.; Kwo, J.; Yang, B.; Gossmann, H.-J.L.; Frei, M.; Chu, S.N.G.; Mannaerts, J.P.; Sergent, M.; Hong, M.; Ng, K.K.; Bude, J.; MINGHWEI HONG |
| 臺大學術典藏 |
2019-12-27T07:49:50Z |
GaAs-based metal-oxide semiconductor field-effect transistors with Al 2 O 3 gate dielectrics grown by atomic layer deposition
|
Ye, P.D.; Wilk, G.D.; Yang, B.; Kwo, J.; Gossmann, H.-J.L.; Frei, M.; Mannaerts, J.P.; Sergent, M.; Hong, M.; Ng, K.K.; Bude, J.; MINGHWEI HONG |
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