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機構	日期	題名	作者
大葉大學	2017-05-8	Surface Passivation of Silicon Using HfO2 Thin Films Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition System	XIAOYING, ZHANG;Hsu, Chia-Hsun;Lien, Shui-Yang;Chen, Song-Yan;Huang, Wei;Yang, Chih-Hsiang;Kung, Chung-Yuan;Zhu, Wen-Zhang;Xiong, Fei-Bing;Meng, Xian-Guo

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