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機構	日期	題名	作者
國立交通大學	2019-04-02T06:00:18Z	Reoxidation behavior of high-nitrogen oxynitride films after O-2 and N2O treatment	Lin, BC; Chang, KM; Lai, CH; Hsieh, KY; Yao, JM
國立交通大學	2014-12-08T15:19:12Z	Reoxidation behavior of high-nitrogen oxynitride films after O(2) and N(2)O treatment	Lin, BC; Chang, KM; Lai, CH; Hsieh, KY; Yao, JM

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