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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2014-12-08T15:43:55Z	Elimination of dielectric degradation for chemical-mechanical planarization of low-k hydrogen silisesquioxane	Chang, TC; Liu, PT; Tsai, TM; Yeh, FS; Tseng, TY; Tsai, MS; Chen, BC; Yang, YL; Sze, SM
國立交通大學	2014-12-08T15:17:12Z	Integration issues for siloxane-based hydrogen silsesquioxane (HSQ) applied on TFT-LCDs	Chang, TS; Chang, TC; Liu, PT; Yeh, FS

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