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機構	日期	題名	作者
國立交通大學	2019-04-03T06:41:13Z	Conduction Mechanism and Improved Endurance in HfO2-Based RRAM with Nitridation Treatment	Yuan, Fang-Yuan; Deng, Ning; Shih, Chih-Cheng; Tseng, Yi-Ting; Chang, Ting-Chang; Chang, Kuan-Chang; Wang, Ming-Hui; Chen, Wen-Chung; Zheng, Hao-Xuan; Wu, Huaqiang; Qian, He; Sze, Simon M.

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