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机构 日期 题名 作者
國立交通大學 2018-08-21T05:57:09Z The Issues on the Power Consumption of Trigate FinFET: The Design and Manufacturing Guidelines Chung, Steve S.; Hsieh, E. R.
國立交通大學 2018-08-21T05:57:09Z The Impact of TiN Barrier on the NBTI in an Advanced High-k Metal-gate p-channel MOSFET Huang, D. -C.; Hsieh, E. Ray; Gong, J.; Huang, C. -F.; Chung, Steve S.
國立交通大學 2018-08-21T05:57:00Z The Guideline on Designing Face-tunneling FET for Large-scale-device Applications in IoT Hsieh, E. R.; Lee, J. W.; Lee, M. H.; Chung, Steve S.
國立交通大學 2018-08-21T05:56:52Z A Novel Design of P-N Staggered Face-tunneling TFET Targeting for Low Power and Appropriate Performance Applications Hsieh, E. R.; Fan, Y. C.; Chang, K. Y.; Liu, C. H.; Chien, C. H.; Chung, Steve S.
國立交通大學 2018-08-21T05:56:52Z Geometric Variation: A Novel Approach to Examine the Surface Roughness and the Line Roughness Effects in Trigate FinFETs Hsieh, E. R.; Fan, Y. C.; Liu, C. H.; Chung, Steve S.; Huang, R. M.; Tsai, C. T.; Yew, T. R.
國立交通大學 2018-08-21T05:53:03Z A 14-nm FinFET Logic CMOS Process Compatible RRAM Flash With Excellent Immunity to Sneak Path Hsieh, E. Ray; Kuo, Yen Chen; Cheng, Chih-Hung; Kuo, Jing Ling; Jiang, Meng-Ru; Lin, Jian-Li; Chen, Hung-Wen; Chung, Steve S.; Liu, Chuan-Hsi; Chen, Tse Pu; Huang, Shih An; Chen, Tai-Ju; Cheng, Osbert
國立交通大學 2018-01-24T07:42:48Z 新穎高性能鰭式電晶體結構 及其高頻特性分析 林建里; 莊紹勳; Lin, Jian-Li; Chung, Steve-S.
國立交通大學 2018-01-24T07:42:00Z 14奈米鰭式電晶體自熱效應的新穎溫度量測方法 及其對傳輸機制之影響 江孟儒; 莊紹勳; Jiang, Meng-Ru; Chung, Steve S.
國立交通大學 2018-01-24T07:41:58Z 一種新穎的鰭式電晶體可程式神經陣列 在人工神經網路的應用 陳泓文; 莊紹勳; Chen, Hung-Wen; Chung, Steve S.
國立交通大學 2017-04-21T06:56:06Z A theoretical and experimental evaluation of surface roughness variation in trigate metal oxide semiconductor field effect transistors Hsieh, E. R.; Chung, Steve S.
國立交通大學 2017-04-21T06:50:15Z Fully CMOS Compatible 3D Vertical RRAM with Self-aligned Self-selective Cell Enabling Sub-5nm Scaling Xu, Xiaoxin; Luo, Qing; Gong, Tiancheng; Lv, Hangbing; Long, Shibing; Liu, Qi; Chung, Steve S.; Li, Jing; Liu, Ming
國立交通大學 2017-04-21T06:50:15Z A Comprehensive Transport Model for High Performance HEMTs Considering the Parasitic Resistance and Capacitance Effects Hung, C. M.; Li, K. C.; Hsieh, E. R.; Wang, C. T.; Kou, C. I.; Chang, Edward Y.; Chung, Steve S.
國立交通大學 2017-04-21T06:50:15Z A New Variation Plot to Examine the Interfacial-dipole Induced Work-function Variation in Advanced High-k Metal-gate CMOS Devices Hsieh, E. R.; Wang, Y. D.; Chung, Steve S.; Ke, J. C.; Yang, C. W.; Hsu, S.
國立交通大學 2017-04-21T06:50:00Z The Experimental Demonstration of the BTI-Induced Breakdown Path in 28nm High-k Metal Gate Technology CMOS Devices Hsieh, E. R.; Lu, P. Y.; Chung, Steve S.; Chang, K. Y.; Liu, C. H.; Ke, J. C.; Yang, C. W.; Tsai, C. T.
國立交通大學 2017-04-21T06:50:00Z The Process and Stress-Induced Variability Issues of Trigate CMOS Devices Chung, Steve S.
國立交通大學 2017-04-21T06:49:47Z The RTN Measurement Technique on Leakage Path Finding in Advanced High-k Metal Gate CMOS Devices Hsieh, E. R.; Lu, P. Y.; Chung, Steve S.; Ke, J. C.; Yang, C. W.; Tsai, C. T.; Yew, T. R.
國立交通大學 2017-04-21T06:49:45Z 3D-TCAD Simulation Study of the Novel T-FinFET Structure for Sub-14nm Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor Chou, Chen-Han; Hsu, Chung-Chun; Chung, Steve S.; Chien, Chao-Hsin
國立交通大學 2017-04-21T06:49:45Z Design of Complementary Tilt-gate TFETs with SiGe/Si and III-V Integrations Feasible for Ultra-low-power Applications Hsieh, E. R.; Lin, Y. S.; Zhao, Y. B.; Liu, C. H.; Chien, C. H.; Chung, Steve S.
國立交通大學 2017-04-21T06:49:28Z The Impact of the Three-Dimensional Gate on the Trigate FinFETs Chung, Steve S.
國立交通大學 2017-04-21T06:49:14Z A Circuit Level Variability Prediction of Basic Logic Gates in Advanced Trigate CMOS Technology Hsieh, E. R.; Hung, C. M.; Wang, T. Y.; Chung, Steve S.; Huang, R. M.; Tsai, C. T.; Yew, T. R.
國立交通大學 2017-04-21T06:49:09Z An Innovative 1T1R Dipole Dynamic Random Access Memory (DiRAM) featuring High Speed, Ultra-low power, and Low Voltage Operation Hsieh, E. R.; Chuang, C. H.; Chung, Steve S.
國立交通大學 2017-04-21T06:49:07Z Recent Advances of RTN Technique Towards the Understanding of the Gate Dielectric Reliability in Trigate FinFETs Chung, Steve S.
國立交通大學 2017-04-21T06:49:07Z Experimental Techniques on the Understanding of the Charge Loss in a SONOS Nitride-storage Nonvolatile Memory Hsieh, E. R.; Wang, H. T.; Chung, Steve S.; Chang, Wayne; Wang, S. D.; Chen, C. H.
國立交通大學 2017-04-21T06:49:02Z A Novel One Transistor Resistance-Gate Nonvolatile Memory Chung, Steve S.; Hsieh, E. R.; Yang, S. P.; Chuang, C. H.
國立交通大學 2017-04-21T06:48:53Z The Random Dopant and Gate Oxide Variations in Trigate MOSFETs Chung, Steve S.

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