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教育部委托研究计画 计画执行:国立台湾大学图书馆
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"jan st"的相关文件
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| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:04:24Z |
THE PROCESS LIMITATION FOR FORMING TI SILICIDED SHALLOW JUNCTION BY BF(2)+ IMPLANTATION INTO THIN POLYCRYSTALLINE SI FILMS AND SUBSEQUENT TI SILICIDATION
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JUANG, MH; LIN, CT; JAN, ST; CHENG, HC |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:03:46Z |
FORMATION OF SHALLOW P(+)N JUNCTIONS BY BF2+ IMPLANTATION INTO THIN POLYCRYSTALLINE SI FILMS
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LIN, CT; JUANG, MH; JAN, ST; CHOU, PF; CHENG, HC |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:03:30Z |
EFFECTS OF COBALT SILICIDATION ON THE ELECTRICAL CHARACTERISTICS OF SHALLOW P(+)N JUNCTIONS FORMED BY BF2+ IMPLANTATION INTO THIN POLYCRYSTALLINE SI FILMS
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LIN, CT; CHAO, CH; JUANG, MH; JAN, ST; CHOU, PF; CHENG, HC |
显示项目 1-3 / 3 (共1页) 1 每页显示[10|25|50]项目
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