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机构	日期	题名	作者
國立虎尾科技大學	2006	Effect of tin-doped indium oxide film thickness on the diffusion barrier between silicon and copper	Liu, W. L.;Chen, W. J.;Tsai, T. K.;Hsieh, S. H.;Liu, C. M.
國立臺灣大學	1985	Temperature Dependent Study of Oxalic Acid	王瑜; Tsai, C. J.; Liu, W. L.; Calvert, L. D.; Wang, Yu; Tsai, C. J.; Liu, W. L.; Calvert, L. D.

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