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機構	日期	題名	作者
國立成功大學	1998-07	Reactive ion etching for AlGaInP/GaInP laser structures	Juang, Y. Z.; Su, Yan-Kuin; Chang, S. J.; Huang, D. F.; Chang, S. C.
國立交通大學	2014-12-08T15:27:43Z	Reactive ion etching of compound semiconductors grown by MOCVD technique with BCl3/SF6/Ar mixtures	Chang, KM; Tsai, JY; Yeh, CB; Yeh, TH; Wang, SW; Jou, MJ
臺大學術典藏	1991	Reactive Ion Etching of GaAs Using CCl2F2 Plasma	Hsu, S. M.; Lin, Hao-Hsiung; Hsu, S. M.; 林浩雄; Lin, Hao-Hsiung
國立臺灣大學	1991	Reactive Ion Etching of GaAs Using CCl2F2 Plasma	Hsu, S. M.; 林浩雄; Hsu, S. M.; Lin, Hao-Hsiung
國立交通大學	2014-12-08T15:03:27Z	REACTIVE ION ETCHING OF GAINP, GAAS, AND ALGAAS	WU, JW; CHANG, CY; CHANG, EY; CHANG, SH; LIN, KC
國立交通大學	2014-12-08T15:02:31Z	Reactive ion etching of GaN with BCl3/SF6 plasmas	Feng, MS; Guo, JD; Lu, YM; Chang, EY
國立交通大學	2019-04-02T05:58:30Z	Reactive ion etching of GaN with BCl3/SF6 plasmas	Feng, MS; Guo, JD; Lu, YM; Chang, EY
國立交通大學	2014-12-12T02:11:24Z	Reactive ion etching of InP and InGaP using CH□/H□mixtures	陳昶儒; Chen, Chang-Ru; 張國明; Zhang, Guo-Ming
中原大學	1999	Reactive Ion Etching of Ir Films with a TiN Mask in Ar/O2/BCl3 Helicon Wave Plasma	T.C.Wei;M.C.Chiang;F.M.Pan;T.P.Liu;B.T.Dai;H.C.Chien;
中原大學	1992	Reactive ion etching of polyimidesiloxanes in fluorine-containing discharges	S. Jeng;H.S. Kwok;J.A. Tyrell

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