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机构	日期	题名	作者
國立交通大學	2014-12-08T15:02:13Z	Comprehensive study of plasma pretreatment process for thin gate oxide (<10 nm) fabricated by electron cyclotron resonance plasma oxidation	Chang, KM; Li, CH; Fahn, FJ; Yeh, TH; Wang, SW
國立交通大學	2014-12-08T15:02:10Z	The influence of precleaning process on the gate oxide film fabricated by electron cyclotron resonance plasma oxidation	Chang, KM; Li, CH; Fahn, FJ; Tsai, JY; Yeh, TH; Wang, SW; Yang, JY

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