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机构 日期 题名 作者
國立交通大學 2014-12-08T15:47:36Z Improvement of reliability of metal-oxide semiconductor field-effect transistors with N2O nitrided gate oxide and N2O polysilicon gate reoxidation Lai, CS; Chao, TS; Lei, TF; Lee, CL; Huang, TY; Chang, CY
國立交通大學 2014-12-08T15:46:44Z Improvement of ultra-thin 3.3 nm thick oxide for co-salicide process using NF3 annealed poly-gate Chang, TY; Lei, TF; Chao, TS; Huang, CT; Chen, SK; Tuan, A; Chou, S
國立交通大學 2014-12-08T15:46:40Z Enhancement of integrity of polysilicon oxide by using a combination of N2O nitridation and CMP process Lei, TF; Chen, JH; Wang, MF; Chao, TS
國立交通大學 2014-12-08T15:46:12Z A novel Si-B diffusion source for p(+)-poly-Si gate Chao, TS; Kuo, CP; Chen, TP; Lei, TF
國立交通大學 2014-12-08T15:46:06Z Improvement of junction leakage of nickel silicided junction by a Ti-capping layer Hou, TH; Lei, TF; Chao, TS
國立交通大學 2014-12-08T15:45:23Z Low contact resistance of poly-plug structure by in-situ HF-vapour cleaning Chen, JH; Lei, TF; Chao, TS; Su, TP; Huang, SJ; Tuan, A; Chen, SK
國立交通大學 2014-12-08T15:45:12Z Improvement of polysilicon oxide integrity using NF3-annealing Yang, WL; Shieh, MS; Chen, YM; Chao, TS; Liu, DG; Lei, TF
國立交通大學 2014-12-08T15:45:06Z Novel cleaning solutions for polysilicon film post chemical mechanical polishing Pan, TM; Lei, TF; Chen, CC; Chao, TS; Liaw, MC; Yang, WL; Tsai, MS; Lu, CP; Chang, WH
國立交通大學 2014-12-08T15:45:01Z Robust ultrathin oxynitride dielectrics by NH3 nitridation and N2O RTA treatment Pan, TM; Lei, TF; Chao, TS
國立交通大學 2014-12-08T15:45:00Z Characteristics of polysilicon oxides combining N2O nitridation and CMP processes Lei, TF; Chen, JH; Wang, MF; Chao, TS

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