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机构 日期 题名 作者
國立交通大學 2014-12-08T15:45:23Z Low contact resistance of poly-plug structure by in-situ HF-vapour cleaning Chen, JH; Lei, TF; Chao, TS; Su, TP; Huang, SJ; Tuan, A; Chen, SK
國立交通大學 2014-12-08T15:45:12Z Improvement of polysilicon oxide integrity using NF3-annealing Yang, WL; Shieh, MS; Chen, YM; Chao, TS; Liu, DG; Lei, TF
國立交通大學 2014-12-08T15:45:06Z Novel cleaning solutions for polysilicon film post chemical mechanical polishing Pan, TM; Lei, TF; Chen, CC; Chao, TS; Liaw, MC; Yang, WL; Tsai, MS; Lu, CP; Chang, WH
國立交通大學 2014-12-08T15:45:01Z Robust ultrathin oxynitride dielectrics by NH3 nitridation and N2O RTA treatment Pan, TM; Lei, TF; Chao, TS
國立交通大學 2014-12-08T15:45:00Z Characteristics of polysilicon oxides combining N2O nitridation and CMP processes Lei, TF; Chen, JH; Wang, MF; Chao, TS
國立交通大學 2014-12-08T15:44:51Z High quality ultrathin CoTiO3 high-k gate dielectrics Pan, TM; Lei, TF; Chao, TS; Chang, KL; Hsieh, KC
國立交通大學 2014-12-08T15:44:48Z Postexposure delay effect on linewidth variation in base added chemically amplified resist Ku, CY; Shieh, JM; Chiou, TB; Lin, HK; Lei, TF
國立交通大學 2014-12-08T15:44:47Z Optimum conditions for novel one-step cleaning method for pre-gate oxide cleaning using robust design methodology Pan, TM; Lei, TF; Chao, TS; Liaw, MC; Lu, CP
國立交通大學 2014-12-08T15:44:41Z Characteristics of TEOS polysilicon oxides: Improvement by CMP and high temperature RTA N-2/N2O annealing Chen, JH; Lei, TF; Chao, TS
國立交通大學 2014-12-08T15:44:20Z A novel thin-film transistor with self-aligned field induced drain Lin, HC; Yu, CM; Lin, CY; Yeh, KL; Huang, TY; Lei, TF

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