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机构 日期 题名 作者
國立交通大學 2014-12-08T15:06:13Z AN ACCURATE MOBILITY MODEL FOR THE I-V-CHARACTERISTICS OF N-CHANNEL ENHANCEMENT-MODE MOSFETS WITH SINGLE-CHANNEL BORON IMPLANTATION WU, CY; DAIH, YW
國立交通大學 2014-12-08T15:06:13Z A NEW THRESHOLD-VOLTAGE MODEL FOR SMALL-GEOMETRY BURIED-CHANNEL MOSFETS WU, CY; HSU, KC
國立交通大學 2014-12-08T15:06:13Z MOBILITY MODELS FOR THE IV CHARACTERISTICS OF BURIED-CHANNEL MOSFETS WU, CY; HSU, KC
國立交通大學 2014-12-08T15:06:12Z SUPERIOR CHARACTERISTICS OF NITRIDIZED THERMAL OXIDE GROWN ON POLYCRYSTALLINE SILICON CHEN, CF; WU, CY
國立交通大學 2014-12-08T15:06:11Z AN EFFICIENT METHOD FOR CALCULATING THE DC TRIGGERING CURRENTS IN CMOS LATCH-UP CHEN, MJ; WU, CY
國立交通大學 2014-12-08T15:06:11Z A NEW ANALYTICAL 3-DIMENSIONAL MODEL FOR SUBSTRATE RESISTANCE IN CMOS LATCHUP STRUCTURES CHEN, MJ; WU, CY
國立交通大學 2014-12-08T15:06:11Z AN ANALYTIC THRESHOLD-VOLTAGE MODEL FOR SHORT-CHANNEL ENHANCEMENT MODE N-CHANNEL MOSFETS WITH DOUBLE BORON CHANNEL IMPLANTATION WU, CY; HUANG, GS; CHEN, HH
國立交通大學 2014-12-08T15:06:11Z AN EFFICIENT TWO-DIMENSIONAL MODEL FOR CMOS LATCHUP ANALYSIS CHEN, MJ; WU, CY
國立交通大學 2014-12-08T15:06:09Z AN ENVIRONMENT-INSENSITIVE TRILAYER STRUCTURE FOR TITANIUM SILICIDE FORMATION LIN, MZ; YU, YCS; WU, CY
國立交通大學 2014-12-08T15:06:09Z A CHARACTERIZATION MODEL FOR RAMP-VOLTAGE-STRESSED IV CHARACTERISTICS OF THIN THERMAL OXIDES GROWN ON SILICON SUBSTRATE CHEN, CF; WU, CY

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