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机构 日期 题名 作者
淡江大學 2003-05 A study of copper chemical mechanical polishing in urea–hydrogen peroxide slurry by electrochemical impedance spectroscopy Tsai, Tzu-hsuan; Wu, Yung-fu; Yen, Shi-chern
淡江大學 2003-04-15 Localized Corrosion Effects and Modifications of Acidic and Alkaline Slurries on Copper Chemical Mechanical Polishing Tsai, Tzu-hsuan; Yen, Shi-chern
國立臺灣大學 2003 Localized corrosion effects and modifications of acidic and alkaline slurries on copper chemical mechanical polishing Tsai, Tzu-Hsuan; Yen, Shi-Chern
國立臺灣大學 2003 A study of copper chemical mechanical polishing in urea–hydrogen peroxide slurry by electrochemical impedance spectroscopy Tsai, Tzu-Hsuan; Wu, Yung-Fu; Yen, Shi-Chern
國立臺灣大學 2001 Effects of additives and chelating agents on electroless copper plating Lin, Yi-Mao; Yen, Shi-Chern
國立臺灣大學 1995 Theoretical analysis of film uniformity in spinning processes Wang, Chih-Ta; Yen, Shi-Chern
國立臺灣大學 1994 在外加強制對流下旋轉盤電極上之質量傳送研究(二) 顏溪成; Yen, Shi-Chern
國立臺灣大學 1993 在外加強制對流下旋轉盤電極上之質量傳送研究(一) 顏溪成; Yen, Shi-Chern
國立臺灣大學 1992 Mass transfer and fluid flow due to a rotating disk with external forced convection Yen, Shi-Chern; Wang, Jin-Shen
國立臺灣大學 1992 Experimental Mass Transfer at a Forced-Convective Rotating-Disk Electrode Yen, Shi-Chern; Wang, Jin-Shen; Chapman, Thomas W.

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