| 國立臺灣科技大學 |
2001 |
HFC網路上實現VoIP服務之排程演算法之研究
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曾富昌 |
| 國立臺灣科技大學 |
2002 |
HFC網路即時服務品質保證的排程演算法分析
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黃宗甫 |
| 國立臺灣科技大學 |
2003 |
HFC網路提供VoIP服務之排程研究
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黎碧煌;陳志明 |
| 國立臺灣科技大學 |
2004 |
HFC網路故障回復之研究
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陳志瑋 |
| 國立臺灣科技大學 |
2002 |
HFC網路語音服務品質保證的排程演算法研究
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何信呈 |
| 國立交通大學 |
2018-01-24T07:41:35Z |
HFE-7000於微流道熱沉之流動沸騰熱傳增強研究
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陳致同; 王啟川; Chen, Jhih Tong |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T01:15:34Z |
HFE-7100介電液冷煤在微通道散熱器之兩相沸騰研究
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洪國元; Guo-Yuan Hong; 楊文美; Wen-Mei Yang |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:29:37Z |
HFE-7100微通道熱沉應用於高性能散熱模組研究
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王啟川; WANG CHI-CHUAN |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:41:39Z |
HFE-7100微通道熱沉應用於高性能散熱模組研究
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王啟川; WANG CHI-CHUAN |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:43:13Z |
HFE-7100微通道熱沉應用於高性能散熱模組研究
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王啟川; WANG CHI-CHUAN |
| 國立成功大學 |
1992 |
HfN 及(Ti, Hf)N 濺鍍鍍層之研製及其特性之評估
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黃啟祥計畫主持 |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:33:28Z |
HFO-1234yf 熱力循環系統模擬軟體開發 (I)
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王啟川; WANG CHI-CHUAN |
| 國立交通大學 |
2017-04-21T06:49:39Z |
HfO2 Inter-Poly Dielectric Characteristics with Interface Fluorine Passivation
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Chen, Yung-Yu; Hsieh, Chih-Ren; Lu, Kwung-Wen; Lou, Jen-Chung |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:37:15Z |
HfO2 MIS capacitor with copper gate electrode
|
Perng, TH; Chien, CH; Chen, CW; Yang, MJ; Lehnen, P; Chang, CY; Huang, TY |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:29:54Z |
HfO2 nanocrystal memory on SiGe channel
|
Lin, Yu-Hsien; Chien, Chao-Hsin |
| 國立交通大學 |
2016-03-28T00:05:44Z |
HfO2 Trap Layer Nonvolatile Flash Memory on SiGe Channel
|
Lin, Yu-Hsein; Li, Jyun-Han; You, Hsin-Chiang; Hong, Jin-Shi; Tsai, Wan-Ting; Chen, Hung-Wei |
| 國立成功大學 |
2017-02-09 |
HfO2-x薄膜之結構與光學性質暨其應用於高溫HfO2-x/W/HfO2-x/W多層太陽能選擇性吸收膜之研究
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薛春木; Hsueh, Chun-Mu |
| 國立成功大學 |
2016-07-18 |
HfO2-x薄膜之結構與光學性質暨其應用於高溫HfO2-x/W/HfO2-x/W多層太陽能選擇性吸收膜之研究
|
薛春木; Hsueh, Chun-Mu |
| 國立交通大學 |
2019-09-02T07:45:39Z |
HfO2/AIN/ln(0.53)Ga(0.47)As MOS Devices Electrical Properties and Reliability Studies
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Yi-Chang, Edward; Quang-Ho Luc; Huy-Binh Do; Chang, Po-Chun; Lin, Yueh-Chin |
| 國立臺灣大學 |
2007 |
HfO2/HfAlO/HfO2 nanolaminate charge trapping layers for high-performance nonvolatile memory device applications
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Maikap, S.; Tzeng, P. J.; Wang, T. Y.; Lee, H. Y.; Lin, C. H.; Wang,? C. C.; Lee, L. S.; Yang, J. R.; Tsai, M. J. |
| 南台科技大學 |
2003 |
HfO2/HfSixOy high-k gate stack with very low leakage current for low-power poly-si gated CMOS application
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C. W. Yang; Y. K. Fang; S. F. Chen; M. F. Wang; T.H.Hou; Y.M.Lin; L.G.Yao; S. C. Chen; M. S. Liang;陳世芳 |
| 國立成功大學 |
2003-04-17 |
HfO2/HfSixOy high-K gate stack with very low leakage current for low-power poly-Si gated CMOS application
|
Yang, Chih-Wei; Fang, Yean-Kuen; Chen, S. F.; Wang, M. F.; Hou, T. H.; Lin, Y. M.; Yao, Liang-Gi; Chen, S. C.; Liang, M. S. |
| 國立交通大學 |
2018-01-24T07:42:35Z |
HfO2/TiO2雙層電阻式突觸元件之精簡電路模型
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陳盈; 侯拓宏; Chen, Ying; Hou, Tuo-Hung |
| 國立暨南國際大學 |
2013 |
HfO2/ZnO 奈米柱疊層電阻式記憶體之製作與特性量測
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宋湘平; Sung, Shiang-Ping |
| 國立暨南國際大學 |
2012 |
HfO2高介電材料在動態與靜態應力作用下可靠度之分析
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張佑翎; Chang, You-Ling |
