|
English
|
正體中文
|
简体中文
|
總筆數 :0
|
|
造訪人次 :
52796804
線上人數 :
580
教育部委託研究計畫 計畫執行:國立臺灣大學圖書館
|
|
|
顯示項目 654616-654625 / 2348719 (共234872頁)
<< < 65457 65458 65459 65460 65461 65462 65463 65464 65465 65466 > >>
每頁顯示[10|25|50]項目
| 中華大學 |
2010 |
PECVD Silicon Intrinsic Layer Deposition on Glass Substrate for Solar Cell Design
|
林君明; Lin, Jium-Ming |
| 國立交通大學 |
2014-12-08T15:41:19Z |
PECVD-Ti/TiNx barrier with multilayered amorphous structure and high thermal stability for copper metallization
|
Wu, WF; Ou, KL; Chou, CP; Hsu, JL |
| 臺北醫學大學 |
2003 |
PECVD-Ti/TiNx barrier with multilayered amorphous structure and high thermal stability for copper metallization
|
Wu,Wen-Fa; Ou,Keng-Liang; Chou,Chang-Pin; Hsua,Jwo-Lun |
| 國立成功大學 |
2013-07-29 |
PECVD多層介電薄膜熱循環應力分析模擬與實驗驗證
|
蔡印耕; Tsai, Yin-Keng |
| 國立成功大學 |
2013-07-11 |
PECVD多層介電薄膜熱循環應力分析模擬與實驗驗證
|
蔡印耕; Tsai, Yin-Keng |
| 淡江大學 |
2010 |
PECVD微波電漿源研究計畫
|
林諭男 |
| 國立交通大學 |
2014-12-13T10:44:03Z |
PECVD設備應用光電膜性能提昇研究
|
蔡娟娟; C.C. Tsai |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T01:26:51Z |
PECVD護層薄膜應力/形變對MOS起始電壓偏移之影響
|
鄭惇元; Cheng, Tun-Yuan; 吳耀銓; Wu, YewChung Sermon |
| 修平科技大學 |
2022-06 |
PECVD鍍膜機台電漿狀態偵測監控裝置
|
陳宥諭; 劉韋鋐; 邱煜璋 |
| 國立交通大學 |
2014-12-12T02:21:00Z |
PECVD電漿Arcing之改善研究
|
彭元宗; 吳宗信 |
顯示項目 654616-654625 / 2348719 (共234872頁)
<< < 65457 65458 65459 65460 65461 65462 65463 65464 65465 65466 > >>
每頁顯示[10|25|50]項目
|
